OUR TECHNOLOGY

液晶偏振全息器件核心技术

通过液晶分子的空间取向分布与各向异性光学响应,实现偏振、相位和衍射特性的调控。技术链路包括电磁与光学仿真、材料配方、取向图案化及薄膜制备。

LIQUID CRYSTAL POLARIZATION HOLOGRAPHY

什么是液晶偏振全息技术?

液晶偏振全息(Liquid Crystal Polarization Holography,LCPH)通过液晶分子的空间取向与各向异性光学响应,构建具有特定相位、偏振或衍射功能的光学元件。这里的“全息”不局限于三维图像显示,也包括对光波前和传播通道的编码与调控。

技术设计将目标光学功能转换为取向、材料和层结构参数。通过面内图案化或三维周期取向,可形成液晶透镜、偏振光栅、偏振体全息光栅、反射偏振膜及波片等器件;不同器件应采用与其结构匹配的物理模型。

液晶偏振全息取向结构示意:上方为向列相液晶面内周期取向,下方为胆甾相液晶三维螺旋取向及光取向层
液晶空间取向结构示意。器件功能取决于材料、取向、厚度及入射条件。
目标波前与光学功能液晶空间取向设计相位与偏振响应器件及系统验证

PHYSICAL PRINCIPLES

从各向异性到几何相位与体衍射

01

液晶各向异性:从分子取向到偏振响应

液晶材料在不同光轴方向具有不同的折射率。光通过液晶层时,其两个本征偏振分量积累不同的相位,产生相位延迟。通过设计材料双折射、厚度和光轴方位,可以控制输出偏振,并为波片、偏振转换器及相位光学器件提供基础。

δ(λ) = 2πΔneff(λ)d / λ

此式为均匀等效延迟层的表达。扭转、多层或大角度结构需使用相应的各向异性光学模型。

02

几何相位:将目标波前编码为光轴分布

在局部延迟量接近半波条件时,圆偏振入射光的主要转换分量获得与光轴方位角相关的 Pancharatnam–Berry(PB)几何相位。面内线性取向变化可形成偏转光栅,径向取向分布可形成透镜相位,更一般的二维分布则可用于波前整形。

φσ(x,y) = 2σ α(x,y)

α 为局部光轴方位角,σ = ±1 表示选定约定下的两种圆偏振态。相位符号依赖坐标约定;转换效率仍受波长、延迟量与入射条件影响。

03

偏振体全息:由三维周期结构选择光通道

PVG 等体结构器件在面内及厚度方向形成周期性取向与介电张量分布,通过体衍射实现波长、角度和偏振相关的光耦合。CLC-RP 则利用胆甾相螺旋结构的选择性反射。此类器件的响应需结合三维结构与相位匹配分析,不能一律等同于薄型 PB 相位片。

kd = ki + K

k_i、k_d 为器件介质内的入射与衍射波矢,K 为对应空间谐波的光栅矢量。匹配关系用于确定耦合几何,效率需进一步求解。

DEVICE CHARACTERISTICS

薄型结构与可设计的光学响应

01

微米级光学功能层

光学功能可由薄液晶层的取向结构承担,有利于器件薄型化与轻量化。这里的功能层厚度不等同于含基底、驱动与封装的完整器件厚度。

02

面向高效率的相位设计

接近设计半波条件的理想 PB 元件可具有很高的偏振转换效率;实际性能还取决于波段、角度、偏振纯度和制备质量,需在约定条件下验证。

03

可定制的波前与衍射功能

可将目标相位分布转换为空间取向设计,覆盖聚焦、偏转、分束及波前整形。可实现范围受空间分辨率、口径、波长与光学传播条件约束。

04

偏振选择与电控组合

偏振选择性提供区分光通道的设计方式;将合适的无源器件与电控偏振开关组合,可实现焦态或方向切换。固定取向结构本身不必然具备电控功能。

TECHNOLOGY & PRODUCTS

技术机制与液晶光学器件

主要产品 ↗
液晶光学产品的技术机制及主要功能
器件类型主要技术机制主要功能与应用方向
PVG 三维周期取向与偏振选择性体衍射光波导耦入、耦出及指定光通道耦合
LC-ETL PB 透镜相位与电控偏振切换非机械式焦态选择与多焦态光路
LCPG 周期取向产生相反符号的几何相位梯度光束偏转、偏振分束及方向切换
CLC-RP 胆甾相螺旋结构的选择性反射反射/透射偏振管理与膜层集成
LC WAVEPLATE 双折射延迟与多层取向协同设计宽带偏振转换与相位延迟补偿
ACHROMATIC LC LENS 目标相位、材料色散与系统光学协同设计多波长聚焦与残余色差控制
PVL 空间变化的液晶偏振体全息结构与反射波前设计离轴反射聚焦、折叠光路及波导耦合研究
GRIN LC LENS 液晶取向与有效折射率梯度形成的可调光程差电控调焦、焦平面选择与离焦补偿

产品详情页分别说明器件原理、技术特点、适用场景与设计输入,便于结合系统要求开展选型。

TECHNICAL QUESTIONS

概念辨析与设计条件

围绕液晶偏振全息、PB 几何相位、光取向和偏振体光栅等概念,明确器件能力与系统条件。

研发与定制流程 ↗
液晶偏振全息与传统全息光学有什么区别?

液晶偏振全息通常利用空间取向形成各向异性的光学响应,偏振态是设计和使用条件的一部分。传统标量全息元件则常通过折射率或厚度分布调制相位。二者都能形成衍射功能,但记录方式、偏振响应和分析模型有所不同。

光取向、基底和液晶功能层分别起什么作用?

光取向是一类通过曝光设置取向边界的方法;取向层为液晶提供表面排列条件,液晶功能层产生所需的光学响应,基底主要承担机械支撑与集成作用。制备过程还可涉及涂布、取向传递和聚合固化,具体路线依据器件结构确定。

采用几何相位是否意味着自动消色差?

不是。几何相位的空间编码与偏振转换效率、焦距的光谱响应是不同概念。固定 PB 相位分布不会自动获得全波段共焦;宽带波片和消色差透镜需要分别针对偏振误差或焦移进行设计。

是否所有液晶偏振全息器件都能电控切换?

不是。聚合物固定取向器件通常为无源元件;可切换功能可通过电控偏振开关与对应光学元件组合实现。无源器件、电控组件及完整系统应明确各自的功能范围。

开展定制研发需要提供哪些光学条件?

建议提供目标功能、工作波段、有效口径、入射角与偏振态,以及所需波前、焦态或衍射方向。还应明确基底、集成空间、容差和验证方法,便于联合评估设计与制备可行性。

原理参考文献

参考文献用于说明通用原理,不代表本公司采用文献中的具体工艺或已达到其中的测试指标。

从设计,到器件

光学设计、材料与制备工艺

光学设计与仿真01

光学设计与仿真

将目标波前与系统要求转换为取向和光学结构设计,评估相位、偏振、衍射及系统传播特性,并确定验证条件。

材料与配方02

材料与配方

围绕双折射、光谱响应、聚合与成膜要求开展液晶材料和配方研究,结合目标器件评估材料与工艺的匹配。

取向与图案化工艺03

取向与图案化工艺

通过取向与图案化工艺建立液晶排列的边界条件,将光学设计中的空间分布转化为面内或三维取向结构。

成膜工艺与器件集成04

成膜工艺与器件集成

结合基底、液晶层、固化与集成条件评估制备路线,检查膜厚、取向均匀性及最终器件的光学响应。

技术需求沟通

产品选型与定制技术咨询

请提供目标光学功能、工作波段、口径、偏振及系统集成条件。

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